한-중-러 잇는 ‘특허 실크로드’ 열린다
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한-중-러 잇는 ‘특허 실크로드’ 열린다
  • 제주환경일보
  • 승인 2009.06.23 15:48
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한·러 특허청장 회담, 한·중 상표협력 회담 개최

 

우리나라와 중국, 러시아를 잇는 특허실크로드가 열린다.


고정식 특허청장은 23일(현지시간) 모스크바 러시아 특허청에서 보리스 시모노프(Dr. Boris Simonov) 러시아 특허청장과 한·러 특허청장 회담을 갖고 오는 11월 2일부터 한-러 양국간 ‘특허심사하이웨이(PPH)’를 실시하기로 합의했다.

‘특허심사하이웨이’란 두 나라 공통특허출원 중 먼저 출원한 나라에서 ‘특허 가능’하다는 판단을 받은 특허출원 건에 대해 상대국이 편한 절차로 빨리 심사하는 제도다.

이에 따라 하나의 발명을 여러 나라에 특허출원했을 때 지금까지는 각 나라들이 특허심사를 따로 해왔으나 PPH로 하면 한 나라의 심사결과를 활용해 다른 나라가 먼저 심사할 수 있게 돼 특허심사 효율성이 높아지고 출원인이 국제특허를 얻는 데 드는 시간과 비용도 크게 준다.

실제로 미국에서 특허를 획득하기까지 통상 32개월 이상이 소요됐지만 PPH가 실시되면서 12개월 내로 단축돼 우리 기업들의 특허경쟁력 향상에 도움이 되고 있다는 것이 특허청의 설명이다.

우리나라는 일본, 미국, 덴마크와 특허심사하이웨이를 시행 중이고 영국과는 오는 10월부터 시행한다. 또 캐나다, 독일 등과는 교섭을 벌이고 있다.

청장회담에서 양쪽은 특허심사하이웨이 외에도 녹색발명에 대한 우선 심사 등 지재권분야에서의 녹색성장 지원방안을 폭넓게 논의했다.

또 두 나라에서의 ▲지재권보호 강화를 위한 협력체계 구축 ▲지식재산 인력양성 협력 ▲특허정보교환 ▲지재권 법·제도 공동연구 등을 추진키로 합의했다.

고 청장은 한-러 특허청장 회담에 이어 오후에는 유라시아특허청(EAPO)과 ‘제1차 한-유라시아 특허청장 회담’을 갖고 ▲CIS국가들에 대한 지식재산 인력양성 지원 ▲지재권 보호 강화 ▲특허정보 교환 및 법·제도 공동연구분야에서의 포괄적 협력을 내용으로 하는 MOU(협약)를 체결했다.

러시아는 우리와 교역규모가 지난해 기준으로 180억 달러에 이르고 우리나라의 7위 특허출원대상국(595건, 2007년)이기도 하다.

이번 회담으로 PPH시행과 지재권보호 강화 등 러시아와의 실질적 협력조치를 담은 MOU를 체결, 현지진출기업의 특허획득이 더 빨라지고 러시아에서의 우리 지재권보호 강화에도 크게 도움이 될 것으로 보인다.

고 청장은 “이번 방문으로 자원·에너지 부국이자 기초과학과 원천기술 강국으로서 큰 잠재력을 가진 러시아 및 CIS나라들과의 특허협력과 기술교류가 활성화되고 이들 국가에서의 우리 지재권보호도 강화될 것”이라면서 “지재권과 경제발전의 성공모델인 우리나라 경험을 공유, 성숙한 세계국가로서의 국가이미지 개선에도 한 몫 할 것으로 본다”고 말했다.

한편 고 청장은 오는 26일엔 북경을 방문, 중국 내 상표보호와 단속활동을 총괄하는 국가공상행정관리총국 푸슈앙지엔 부국장(차관급)을 만나 ‘한-중 상표협력회담’을 갖는다.

회담에서 양쪽은 기업브랜드를 보호하는 게 장기적으로 두 나라간 경제교류를 활성화하는 바탕이란 점에 인식을 같이하고 모방상품 유통방지 및 유명상표 보호, 정보화 및 교육연수 분야 등 포괄적 분야에서의 협력을 위한 MOU를 체결한다.

중국은 우리의 제1위 교역대상국이자 최대 투자대상국으로 우리 기업의 진출증가로 최근 특허, 디자인, 상표 등 지재권관련 분쟁이 심해지고 있다.

특허청이 기업을 대상으로 한 설문조사에 따르면 2007~2008년 중국서 접수된 지재권 피침해 사례는 33건으로 전체의 45%를 차지하고 있다.

특히 우리 기업들 상표를 모방한 위조 상품들이 대량유통 되면서 우리 기업 이미지는 물론 우리나라 국가브랜드 가치에도 나쁜 영향을 주고 있다.

고 청장은 “중국방문을 통해 현지진출 우리기업들의 지재권 침해를 막고 분쟁발생 때 빠른 해결을 위한 지재권보호 기반이 강화될 것으로 본다”면서 “두 나라 상표분야 협력 강화를 통한 상표권의 안정적 보호는 비즈니스 환경 개선효과를 가져와 상호교역 및 투자증가란 선순환 구조를 만들 것”이라고 강조했다.

(출처=특허청 )



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